大型拡散炉

本機は主に半導体の熱処理研究※を目的として設計、各種の炉を一つの装置に


パッケージすることで省スペースで 機能的に使用できるシステムです。

 

※ドライ酸化、ウエット酸化、拡散、還元、一般処理等

　

※イオン液体始めました

（型式：ARF-112-4）

 

　

商品名 4連式拡散炉
形式 ARF-112-4型
試料寸法 2インチ及び3インチに可能
炉数 [ID70φ×2本]
[ID90φ×2本]
使用範囲温度 常温～1100℃
最高限界温度　 1200℃迄
昇温時間　 常温～1100℃迄約60分
ヒーター関係 3ゾーン、カンタル線
石英燃焼管 [ID70φ×1000L]

[ID90φ×1000L]
ガスの種類　　 酸素、窒素、水素、アルゴン
価格（外税） お問い合わせ下さい
　
商品名 複式拡散炉
形式 ARF-153W型
試料寸法 4インチウェハー可能
炉数 [ID135φ×2本]
使用範囲温度 常温～1100℃
最高限界温度　 1200℃迄
昇温時間　 常温～1100℃迄約60分
ヒーター関係 3ゾーン、カンタル線
石英燃焼管 [ID135φ×1200L]
ガスの種類　　 酸素、窒素、水素、アルゴン
価格（外税） お問い合わせ下さい
　
商品名 単式拡散炉
形式 ARF-150型
試料寸法 3インチウェハー可能
炉数 [ID93φ×1本]
使用範囲温度 常温～1100℃
最高限界温度　 1200℃迄
昇温時間　 常温～1100℃迄約60分
ヒーター関係 3ゾーン、カンタル線
石英燃焼管 [ID93φ×1200L]
ガスの種類　　 酸素、窒素、水素、アルゴン
価格（外税） お問い合わせ下さい
　
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